მაღალი გამჭვირვალობის ვაკუუმური ჩამოსხმის გამჭვირვალე კომპიუტერი

დამუშავების პირობები

PX 5212 უნდა იქნას გამოყენებული მხოლოდ ვაკუუმური ჩამოსხმის მანქანაში და ჩამოსხმა წინასწარ გახურებულ სილიკონის ყალიბში.ფორმისთვის 70°C ტემპერატურის დაცვა აუცილებელია.

ვაკუუმური ჩამოსხმის მანქანის გამოყენება:

• დაბალ ტემპერატურაზე შენახვის შემთხვევაში გაათბეთ ორივე ნაწილი 20/25°C ტემპერატურაზე.

• აწონეთ იზოციანატი ზედა თასში (არ დაგავიწყდეთ ჭიქის ნარჩენი ნარჩენების დაშვება).

• ქვედა თასში აწონეთ პოლიოლი (შერევის ჭიქა).

• ვაკუუმში 10 წუთის განმავლობაში გაჟონვის შემდეგ დაასხით იზოციანატი პოლიოლში და აურიეთ 4 წუთის განმავლობაში.

• ჩაასხით სილიკონის ყალიბში, ადრე გაცხელებულ 70°C-ზე.

• შედგით ღუმელში 70°C-ზე.

1 საათი 3 მმ სისქისთვის

გახსენით ფორმა, გააგრილეთ ნაწილი შეკუმშული ჰაერით.

ამოიღეთ ნაწილი.

დამუშავების შემდგომი დამუშავება საჭიროა საბოლოო თვისებების მისაღებად (ჩამოსხმის შემდეგ) 2 სთ 70°C + 3 სთ 80°C + 2 სთ 100°C ტემპერატურაზე

გამოიყენეთ სამაგრი ნაწილის დასამუშავებლად გამაგრების შემდგომი მკურნალობის დროს

შენიშვნა: ელასტიური მეხსიერების მასალა ანაზღაურებს ნებისმიერ დეფორმაციას, რომელიც შეინიშნება ჩამოსხმის დროს.

მნიშვნელოვანია PX 5212-ის ჩამოსხმა ახალ ფორმაში ფისის ჩამოსხმის გარეშე.