მაღალი გამჭვირვალობის ვაკუუმური ჩამოსხმის გამჭვირვალე კომპიუტერი

დამუშავების პირობები

PX 5212 უნდა იქნას გამოყენებული მხოლოდ ვაკუუმის ჩამოსხმის მანქანაში და ჩამოსხმული წინასწარ გახურებულ სილიკონის ყალიბში. ყალიბისთვის აუცილებელია 70°C ტემპერატურის დაცვა.

ვაკუუმური ჩამოსხმის აპარატის გამოყენება:

• დაბალ ტემპერატურაზე შენახვის შემთხვევაში, ორივე ნაწილი გააცხელეთ 20 / 25°C-ზე.

• ზედა ჭიქაში აწონეთ იზოციანატი (არ დაგავიწყდეთ ჭიქის ნარჩენების გათვალისწინება).

• ქვედა ჭიქაში (შემრევ ჭიქაში) აწონეთ პოლიოლი.

• 10 წუთიანი ვაკუუმში დეგაზაციის შემდეგ, პოლიოლში ჩაასხით იზოციანატი და ურიეთ 4 წუთის განმავლობაში.

• ჩაასხათ სილიკონის ფორმაში, რომელიც წინასწარ გახურებულია 70°C-ზე.

• შედგით ღუმელში 70°C-ზე.

1 საათი 3 მმ სისქისთვის

გახსენით ფორმა, ნაწილი გააგრილეთ შეკუმშული ჰაერით.

ამოიღეთ ნაწილი.

საბოლოო თვისებების მისაღებად საჭიროა გამყარების შემდგომი დამუშავება (ყალიბის მოხსნის შემდეგ) 2 საათი 70°C-ზე + 3 საათი 80°C-ზე + 2 საათი 100°C-ზე

გამყარების შემდგომი დამუშავების დროს ნაწილის დასამუშავებლად გამოიყენეთ სამაგრი.

შენიშვნა: ელასტიური მეხსიერების მასალა ანეიტრალებს ყალიბის ამოღების დროს დაფიქსირებულ ნებისმიერ დეფორმაციას.

მნიშვნელოვანია PX 5212-ის ახალ ყალიბში ჩამოსხმა ფისის წინასწარი ჩასხმის გარეშე.